Chương 4. QUÁ TRÌNH CHẾ TẠO CẤU TRÚC NANO
Kỹ thuật khắc vi mô chủ yếu là nguyên lý chế tạo trừ, nguyên lý
này loại bỏ vật liệu lắng đọng từ những vị trí nhất định (Mục 3.1).
Nguyên lý trừ có thể chuyển sang công nghệ nano bằng cách sử dụng kỹ
thuật lắng đọng lớp tương tự nhưng với độ dày nhỏ hơn. Tuy nhiên, cần
các phương pháp có độ phân giải ngang cao và độ chính xác cao cho
việc định vị trong quá trình chế tạo. Những yêu cầu này không gồm các
phương pháp chiếu quang học chuẩn như được áp dụng trong quang
khắc. Việc giảm mạnh bước sóng phơi sáng cũng cần thiết. Các kỹ thuật
dò chùm tia đặc biệt phù hợp cho quá trình chế tạo trực tiếp hoặc truyền
ở thang nano (Mục 4.3).